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  • PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機

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PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機

簡要描述:PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機/等離子體表面處理系統是一款功能*的桌面型表面等離子體設備,非常適合于高校、科學研究所和企業實驗室,或者小批量生產,需要低成本運作且高效處理的企業。它具備等離子設備幾乎所有的功能,具有較大的腔體尺寸和靈活的電極配置方式。

  • 產品型號:PLUTO-F
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2026-03-19
  • 訪  問  量:3969

詳細介紹

品牌PLUTOVAC產地類別國產
應用領域生物產業,能源,電子/電池,制藥/生物制藥,綜合
  PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機特點:
 
  1. 桌面型,性能穩定、操作簡便、使用成本極低、易于維護,高性價比。
 
  2.小身材,有效處理面積大,可以輕松處理8寸硅片去膠等應用,最大可以處理203mm*203mm樣品。
 
  3.采用氣浴電極,清洗效率高。
 
  4.靈活的電極配置方案,最多可以處理2片8寸硅片
 
  5.對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。

          PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機參數:
 
  1.  真空腔規格: 材質6061-T6鋁合金 240mm*300mm*200mm
 
  2.  電極:平板氣浴電極,材質6061-T6鋁合金
 
  3.  電極尺寸:205mm *205mm
 
  4.  頻率:13.56MHz (可選配40KHz射頻等離子源)
 
  5.  功率:0-500W連續可調,精度1W,可在設備運行中隨時調整參數
 
  6.  氣體控制:針式氣體流量閥, 60-600ml   2路氣體
 
  7.  真空計:電偶式真空計,精度:0.01mTor
 
  8.  控制方式:4.3寸工業控制觸摸屏,全手動控制和全自動控制兩種控制方式
 
  控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態
 
 

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